- Puissance de 15 ou 30 kW
- Tension jusqu’à 1000 Vdc
- Frequence de 0.5 à 150 kHz
- Version simple ou double magnetron
- Les alimentations Ascent® AP offrent un contrôle sans précédent du plasma dans une solution compacte pour la pulvérisation à magnétron unique et à magnétron double. La technologie pulsée brevetée d’Advanced Energy permet une prévention remarquable des arcs, des niveaux de puissance plus élevés et un débit accru. Les paramètres de contrôle complets et la large gamme opérationnelle de l’Ascent AP permettent de débloquer des options de matériaux afin d’étendre la flexibilité du processus et l’innovation en matière de matériaux.