OMICRON Technologies
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| PALL | Purificateur UHP | |||
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Fiche_technique
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Série Mini-Gaskleen
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Filtration Ultramet-L intégrée ( <3nm avec média inox) Elimine les impuretés tels O2, H2O, CO2, CO, Ni(CO)4 et Fe(CO)5 |
Débit : Faible
Gaz : Inertes, inflammables, AsH3, GeH4, PH3, Clx, NH3, SF6, HBr, HCl et Ox |
| PALL | Purificateur UHP | |||
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Fiche_technique
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Série Gaskleen-SP
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Filtration Ultramet-L intégrée ( <3nm avec média inox) Protège le ZrO2 des capteurs de concentration d'oxygène en éliminant les contaminants |
Débit : Faible
Pour les exhaust gas en RTP, LPCVD et PECVD |
| PALL | Purificateur UHP | |||
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Fiche_technique
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Série Gaskleen-II
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Filtration Ultramet-L intégrée ( <3nm avec média inox) Elimine les impuretés tels O2, H2O, CO2, CO, Ni(CO)4 et Fe(CO)5 |
Débit : Intermédiare Gaz : Inertes, inflammables, AsH3, GeH4, PH3, Clx, NH3, SF6, HBr, HCl et Ox |
| PALL | Purificateur UHP | |||
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Fiche_technique
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Série Gaskleen-ST
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Filtration Ultramet-L intégrée ( <3nm avec média inox) Elimine les impuretés tels O2, H2O, CO2, CO, Ni(CO)4 et Fe(CO)5 |
Débit : Intermédiare Gaz : Inertes, inflammables, AsH3, GeH4, PH3, Clx, NH3, SF6, HBr, HCl et Ox |
| PALL | Purificateur UHP | |||
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Fiche_technique
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Série Maxi-Gaskleen
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Filtration Ultramet-L intégrée ( <3nm avec média inox) Elimine les impuretés tels O2, H2O, CO2, CO, Ni(CO)4 et Fe(CO)5 |
Débit : Elevé Gaz : Inertes, inflammables, AsH3, GeH4, PH3, Clx, NH3, SF6, HBr, HCl et Ox |