Les alimentations Ascent® AP offrent un contrôle sans précédent du plasma dans une solution compacte pour la pulvérisation à magnétron unique et à magnétron double. La technologie pulsée brevetée d'Advanced Energy permet une prévention remarquable des arcs, des niveaux de puissance plus élevés et un débit accru. Les paramètres de contrôle complets et la large gamme opérationnelle de l'Ascent AP permettent de débloquer des options de matériaux afin d'étendre la flexibilité du processus et l'innovation en matière de matériaux.
Version DC ou DC Pulsé basse frequence ou haute fréquence ( jusqu'à 350 kHz)
Description produit :
Les alimentations DC et DC pulsé Solvix® pour les applications de pulvérisation offrent une précision et une répétabilité éprouvées grâce à plus de dix ans d'expérience dans ce domaine. Avec une large gamme de niveaux de puissance et de fréquence, de pulsations et de multiples options de communication, les alimentations Solvix constituent une solution robuste et rentable pour votre processus.
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