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COPRA LS5 CCR Technology

Source Plasma ICP Linéaire

Largeur max. substrat : 300mm (dynamique)

  • Puissance RF max. 5000W
  • Pression : 1e-4 à 1e-2 mBar
  • Accord : piloté
  • Energie ionique : 10...50 eV
  • Densité de courant : 0.01...3 mA/cm2

Applications :

  • Roll to Roll PECVD
  • Roll to Roll cleaning
  • PVD assist